第767章 科学家们的呐喊：前沿不当人了是吧？（第3/4页）

算是某种基操。

有意思的是，胜遇实验室的研究并不怎么花钱，除了技术储备和基础研发环境支出外，最大头的支出居然是研发人员的薪资……

听完汇报，脑子里也开完小差的方总想了想，道：“下午召开一次联合会议，需要有长光所等一些合作单位的参与。”

“我来协调。”行政主管连道。

“我会帮忙。”王院士跟着说道。

“……”

午后两点，长光所副所长张学君等人，大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。

方年坐在居中位置。

神态轻松自如。

令人不敢忽视。

张学君也想起了两年多前的那次会面，实在没想到再见面时会是这样的光景。

方年目光扫过与会众人：“各位下午好，我是方年，初次见面，请多关照。”

“方总好。”

“方总太客气了。”

“……”

简单的寒暄过后，方年直截了当道：“恕我冒昧，为了不耽误大家更多的时间，我就开门见山了。”

“庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线，为了配合这条测试线，梼杌这边将全面进军EUV光刻研究，希望大家能给予必要支持。”

此话一出，众人皆愣。

包括梼杌的王院士。

“EUV？”张学君挑了下眉，斟酌着说道，“方总，冒昧问一句，你好像对极紫外情有独钟？”

“理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻，DUV（深紫外）借住浸入式方案理论上可以做到7nm光刻，似乎没必要全面进军EUV？”

“……”

在座众人都是懂行人士，纷纷发表了各自的看法。

比如DUV技术积累等等问题。

毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对：

集成电路前道制造光刻机。

光刻机其实是个泛称，内里可细分为前道制造、后道封装、应用于TFT（薄膜晶体管）的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。

一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……

听着大家的不同意见，方年微微一笑：“DUV不是有各位在努力吗？”

“前沿不能白叫前沿这个名字，而且EUV这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”

王院士立马道：“可是ASML的EUV实验机去年就运到了台积电使用。”

“……”

“这个领域需要很庞大的投入。”

“……”

方年当然知道。

他更清楚的是，全球范围内EUV光刻机的差距其实不太大。

要么就是没想过，要么就是放弃了。

唯一一家至死不渝坚持到底的是ASML。

有意思的是，最终水准其实取决于砸钱程度以及对技术整合的程度。

当然，ASML快得很，06年开始投入，去年推出了首台EUV工程原型机，而且还有台积电这个大客户在使用、验证、反馈。

但……

ASML很缺钱，方年曾看过的所有与ASML有关的媒体报道都提到了ASML在2012年7月份发起的客户联合投资计划。

这份计划募集了超过50亿欧元的资金，其中一半用于EUV光刻研发。

且因为始终未实现EUV光刻机的大规模量产，以至于参与这份计划的三星、台积电、英特尔先后减持了股份。

钱这东西，前沿也缺。

但前沿在某种意义上可以不缺钱……

等众人讨论完，方年淡然道：“前沿计划今年内首批投入10亿美元，包括但不限于面向全球收购相关企业、专利授权、研发投入；

明年起的三年内前沿一家的年平均纯研发投入不低于50亿人民币，后续视情况递增。”

会议室为之一静。

方年继续说道：“其次，梼杌会牵头促成一个大的泛技术联合投资管理单元，梼杌只承担其中一部分研发工作和大头资金投入，每个单位做自己最擅长的事情；

比如长光所在光相关工作上努力，比如上微电来做总成。”

“协调前沿来搞定，包括其他单位的出资力度等，各位考虑一二给个答复。”

张学君：“……”

“……”

最后有人弱弱的道：“那DUV呢？”

闻言，方年眼皮微动，面带微笑：“差点忘了，庐州前沿需要一台国产的高精度DUV光刻机来进行实验，最好是实验室产品，各位帮帮忙？”

“……”

张学君斟酌着接过话头：“忙可以帮，有个实验室有台很不好用的90nm DUV光刻机可以免费借给前沿用；

不过……”

“我听闻国外有些个企业啊，喜欢列出几百上千项难题，然后督促科学家不停努力……”

张学君话还没说完，方年笑着望了过去，打断道：“看样子张所消息很灵通啊，对我们前沿内部的一些作风都有了解。”